Zespół Mikroelektroniki i Nanotechnologii
Instytut Elektroniki Politechniki Śląskiej
Lokalizacja – pomieszczenia: CK-20, CK-19, CK-18, CK-17, CK-10, CK-8
Zespół zajmujący się rozwijaniem zagadnień związanych z technologią elektronową, mikroelektroniką czy obecnie nanotechnologią powstał ponad 30 lat temu w odpowiedzi na zapotrzebowanie, aby tę właśnie tematykę wprowadzić do programów nauczania na kierunku Elektronika i Telekomunikacja. Zbudowane laboratoria naukowo-dydaktyczne pozwoliły na realizację wielu tematów badawczych. W chwili obecnej MŁODY, PRĘŻNY i DYNAMICZNY zespół Mikroelektroniki i Nanotechnologii pracuje w składzie:
Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, dr inż. Edyta Wróbel, dr inż. Weronika Izydorczyk, dr inż. Piotr Kowalik, dr inż. Jerzy Uljanow, dr inż. Wojciech Filipowski, mgr inż. Natalia Waczyńska- Niemiec |
Obecnie zespół koncentruje się na badaniach związanych z technologią wytwarzania i charakteryzacji materiałów dla elektroniki oraz modelowaniem komputerowym procesów technologicznych, oddziaływań i zjawisk fizycznych. Badania dotyczą:
|
Opracowania technik umożliwiających wytworzenie krzemowej struktury fotowoltaicznej przy wykorzystaniu „tanich technologii” Prace koncentrują się na badaniu procesów wytwarzania szkliw domieszkowo-krzemowych formowanych z rozwirowywanych źródeł domieszek donorowych (fosforu i arsenu) pozwalających na wytwarzanie silnie domieszkowanych obszarów typu n+ pełniących funkcję emitera w strukturach fotowoltaicznych, |
Opracowania testowych struktur sensorowych reagujących na gazy toksyczne i niebezpieczne. Obecnie prace koncentrują się na technologii wytwarzania sensorycznych warstw dwutlenku cyny SnO2 przy wykorzystaniu różnych technik (technologii reotaksjalnego wzrostu i termicznego utleniania (RGTO), techniki spin-coating, techniki wzrostu nanostruktur) w zastosowaniu do struktur sensorycznych ze szczególnym uwzględnieniem czujników gazów toksycznych i niebezpiecznych, |
|
Opracowania technologii chemicznej metalizacji pozwalającej na formowanie cienkich warstw stopów metalicznych o ściśle kontrolowanych właściwościach. Obecnie prace koncentrują się na technologii wytwarzania cienkich warstw metalicznych na bazie modyfikowanego stopu Ni-P metodą chemicznej metalizacji. Prowadzone są badania nad wykorzystaniem warstw tego typu do wytwarzania warstwowych rezystorów precyzyjnych, ale również w zastosowaniu do formowania elektrod w strukturach sensorowych i fotowoltaicznych |
|
Charakteryzacji testowych struktur fotowoltaicznych i sensorowych wytworzonych z wykorzystaniem technologii i materiałów opracowanych w pracowniach technologicznych Zespołu. Obecnie prowadzone są pomiary charakterystyk prądowo-napięciowych testowych ogniw słonecznych na stanowisku do wyznaczania podstawowych parametrów struktur fotowoltaicznych oraz badania odpowiedzi sensorowej wytworzonych struktur czujnikowych przy wykorzystaniu gazów toksycznych i niebezpiecznych na stanowisku do badań gazowych. |
|
Modelowania procesów technologicznych w tym przede wszystkim procesu domieszkowania dyfuzyjnego w półprzewodnikach, ze szczególnym uwzględnieniem dyfuzji fosforu w krzemie. Modelowania procesu chemicznego osadzania warstw stopów metalicznych przy uwzględnieniu złożonych warunków prowadzenia procesu. |
|
Modelowania wpływu zjawisk fizycznych na mechanizmy sensorowe, czułych na gazy, cienkich warstw dwutlenku cyny. Analiza schematów zastępczych testowych struktur czujnikowych |
W laboratoriach Zespołu prowadzone są również zajęcia specjalistyczne na I, II i III stopniu studiów
Wykaz wybranej, unikalnej aparatury badawczej znajdującej się w laboratorium
Technik Mikroelektronicznych:
Wybrane urządzenia technologiczne
Sitodrukarka MSP-200 - produkcji Przemysłowego Instytutu Elektroniki
Piec komorowy SM-2002 - firmy Czylok
Piec tunelowy ERS100 - firmy Ersa Ernst Sachs KG GmbH&Co
Piec komorowy PEO601 – firmy ATV Technologie GmBH Munchen
Zestaw pomp próżniowych PT151 z panelem Turbovac NT20 - firmy Leybold
Naświetlarka do obwodów drukowanych HELLAS – firmy Bungard
Oczyszczalnik gazów technologicznych Unigaz Typ UG-M1 – firmy Cobrabid
Płuczki ultradźwiękowe: MAC50/1, AS310/C/2 – firmy Radwag
Wybrane urządzenie do charakteryzacji materiałów i struktur
Mikroskop metalograficzny AXIO IMAGER A1m firmy Zeiss
Stanowisko do pomiaru rezystancji powierzchniowej półprzewodników metodą sondy czteroostrzowej – RESTEST 2208/RESTEST2101 – firmy Process Control Corporation
Zestaw do pomiaru charakterystyk ciemnych i jasnych struktur fotowoltaicznych
Współpraca z przedsiębiorstwami, ośrodkami naukowo-badawczymi i akademickimi
Współpraca z firmą: HYBRYD Sp. z o.o. 44-120 Pyskowice ul. Sikorskiego 28 identyfikator terytorialny 240502 1 województwo Śląskie, status prawny przedsiębiorcy NIP 648-000-14-15, REGON 0008135290 telefon (32) 233 98 83, fax. (32) 233 98 84 e-mail: Ten adres pocztowy jest chroniony przed spamowaniem. Aby go zobaczyć, konieczne jest włączenie w przeglądarce obsługi JavaScript. – w zakresie realizacji programu celowego pod tytułem: „Opracowanie systemu oświetlenia awaryjnego z centralnym monitoringiem i sterowaniem opraw i urządzeń awaryjnych, dla obiektów zagrożonych atakiem terrorystycznym” Projekt realizowano w okresie 01.06.2005 r. do 30.11.2007 r. Obecnie przygotowywane są kolejne projekty |
|
Współpraca z firmą RESTOR |
|
Współpraca z Instytutem Technologii Elektronowej oddział Kraków |
|
Współpraca z Instytutem Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk w Krakowie a w szczególności ze Stacją Fotowoltaiczną w Kozach koło Bielska Białej |
|
Współpraca z Wydziałem Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej we Wrocławiu
Oferta dla przemysłu Technologia precyzyjnych rezystorów wytwarzanych metodą chemicznej metalizacji Charakteryzacja struktur fotowoltaicznych. |