O Nas

Zespół Mikroelektroniki i Nanotechnologii
Instytut Elektroniki Politechniki Śląskiej
Lokalizacja – pomieszczenia: CK-20, CK-19, CK-18, CK-17, CK-10, CK-8

Zespół zajmujący się rozwijaniem zagadnień związanych z technologią elektronową, mikroelektroniką czy obecnie nanotechnologią powstał ponad 30 lat temu w odpowiedzi na zapotrzebowanie, aby tę właśnie tematykę wprowadzić do programów nauczania na kierunku Elektronika i Telekomunikacja. Zbudowane laboratoria naukowo-dydaktyczne pozwoliły na realizację wielu tematów badawczych. W chwili obecnej MŁODY, PRĘŻNY i DYNAMICZNY zespół Mikroelektroniki i Nanotechnologii pracuje w składzie:

Dr hab. inż. Krzysztof Waczyński, dr inż. Edyta Wróbel, dr inż. Weronika Izydorczyk,
dr inż. Piotr Kowalik, dr inż. Jerzy Uljanow, dr inż. Wojciech Filipowski,
mgr inż. Natalia Waczyńska- Niemiec

Obecnie zespół koncentruje się na badaniach związanych z technologią wytwarzania i charakteryzacji materiałów dla elektroniki oraz modelowaniem komputerowym procesów technologicznych, oddziaływań i zjawisk fizycznych. Badania dotyczą:

	Opracowania technik umożliwiających wytworzenie krzemowej struktury fotowoltaicznej przy wykorzystaniu „tanich technologii” Prace koncentrują się na badaniu procesów wytwarzania szkliw domieszkowo-krzemowych formowanych z rozwirowywanych źródeł domieszek donorowych (fosforu i arsenu) pozwalających na wytwarzanie silnie domieszkowanych obszarów typu n+ pełniących funkcję emitera w strukturach fotowoltaicznych,
	Opracowania testowych struktur sensorowych reagujących na gazy toksyczne i niebezpieczne. Obecnie prace koncentrują się na technologii wytwarzania sensorycznych warstw dwutlenku cyny SnO₂ przy wykorzystaniu różnych technik (technologii reotaksjalnego wzrostu i termicznego utleniania (RGTO), techniki spin-coating, techniki wzrostu nanostruktur) w zastosowaniu do struktur sensorycznych ze szczególnym uwzględnieniem czujników gazów toksycznych i niebezpiecznych,
	Opracowania technologii chemicznej metalizacji pozwalającej na formowanie cienkich warstw stopów metalicznych o ściśle kontrolowanych właściwościach. Obecnie prace koncentrują się na technologii wytwarzania cienkich warstw metalicznych na bazie modyfikowanego stopu Ni-P metodą chemicznej metalizacji. Prowadzone są badania nad wykorzystaniem warstw tego typu do wytwarzania warstwowych rezystorów precyzyjnych, ale również w zastosowaniu do formowania elektrod w strukturach sensorowych i fotowoltaicznych
	Charakteryzacji testowych struktur fotowoltaicznych i sensorowych wytworzonych z wykorzystaniem technologii i materiałów opracowanych w pracowniach technologicznych Zespołu. Obecnie prowadzone są pomiary charakterystyk prądowo-napięciowych testowych ogniw słonecznych na stanowisku do wyznaczania podstawowych parametrów struktur fotowoltaicznych oraz badania odpowiedzi sensorowej wytworzonych struktur czujnikowych przy wykorzystaniu gazów toksycznych i niebezpiecznych na stanowisku do badań gazowych.
	Modelowania procesów technologicznych w tym przede wszystkim procesu domieszkowania dyfuzyjnego w półprzewodnikach, ze szczególnym uwzględnieniem dyfuzji fosforu w krzemie. Modelowania procesu chemicznego osadzania warstw stopów metalicznych przy uwzględnieniu złożonych warunków prowadzenia procesu.
	Modelowania wpływu zjawisk fizycznych na mechanizmy sensorowe, czułych na gazy, cienkich warstw dwutlenku cyny. Analiza schematów zastępczych testowych struktur czujnikowych

W laboratoriach Zespołu prowadzone są również zajęcia specjalistyczne na I, II i III stopniu studiów

Wykaz wybranej, unikalnej aparatury badawczej znajdującej się w laboratorium
Technik Mikroelektronicznych:

Wybrane urządzenia technologiczne
Sitodrukarka MSP-200 - produkcji Przemysłowego Instytutu Elektroniki
Piec komorowy SM-2002 - firmy Czylok
Piec tunelowy ERS100 - firmy Ersa Ernst Sachs KG GmbH&Co
Piec komorowy PEO601 – firmy ATV Technologie GmBH Munchen
Zestaw pomp próżniowych PT151 z panelem Turbovac NT20 - firmy Leybold
Naświetlarka do obwodów drukowanych HELLAS – firmy Bungard
Oczyszczalnik gazów technologicznych Unigaz Typ UG-M1 – firmy Cobrabid
Płuczki ultradźwiękowe: MAC50/1, AS310/C/2 – firmy Radwag

Wybrane urządzenie do charakteryzacji materiałów i struktur
Mikroskop metalograficzny AXIO IMAGER A1m firmy Zeiss
Stanowisko do pomiaru rezystancji powierzchniowej półprzewodników metodą sondy czteroostrzowej – RESTEST 2208/RESTEST2101 – firmy Process Control Corporation
Zestaw do pomiaru charakterystyk ciemnych i jasnych struktur fotowoltaicznych

Współpraca z przedsiębiorstwami, ośrodkami naukowo-badawczymi i akademickimi

	Współpraca z firmą: HYBRYD Sp. z o.o. 44-120 Pyskowice ul. Sikorskiego 28 identyfikator terytorialny 240502 1 województwo Śląskie, status prawny przedsiębiorcy NIP 648-000-14-15, REGON 0008135290 telefon (32) 233 98 83, fax. (32) 233 98 84 e-mail: Ten adres pocztowy jest chroniony przed spamowaniem. Aby go zobaczyć, konieczne jest włączenie w przeglądarce obsługi JavaScript. – w zakresie realizacji programu celowego pod tytułem: *„Opracowanie systemu oświetlenia awaryjnego z centralnym monitoringiem i sterowaniem opraw i urządzeń awaryjnych, dla obiektów zagrożonych atakiem terrorystycznym”* Projekt realizowano w okresie 01.06.2005 r. do 30.11.2007 r. Obecnie przygotowywane są kolejne projekty
	Współpraca z firmą RESTOR
	Współpraca z Instytutem Technologii Elektronowej oddział Kraków
	Współpraca z Instytutem Metalurgii i Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk w Krakowie a w szczególności ze Stacją Fotowoltaiczną w Kozach koło Bielska Białej
	Współpraca z Wydziałem Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej we Wrocławiu Oferta dla przemysłu Technologia precyzyjnych rezystorów wytwarzanych metodą chemicznej metalizacji Charakteryzacja struktur fotowoltaicznych.