Stanowisko: Adiunkt
Opiekun praktyk studenckich
Dziedzina: Nauki Techniczne

Dyscyplina: Elektronika
Adres: ul. Akademicka 16, 44-100 Gliwice

Pokój: 608
Telefon:
48(32) 237-22-64

E-mail: Ten adres pocztowy jest chroniony przed spamowaniem. Aby go zobaczyć, konieczne jest włączenie w przeglądarce obsługi JavaScript.

Przebieg kariery naukowej

1995: magister inżynier elektroniki - Politechnika Śląska, Gliwice
2001: doktor nauk technicznych (elektronika) - Politechnika Śląska, Gliwice


Obszar zainteresowań naukowych:

-Cienkie rezystywne warstwy amorficzne oparte na stopie Ni-P
-Fotowoltaika
-Sensoryka


Dorobek naukowy

Publikacje naukowe w czasopismach z bazy JCR - Lista A MNiSW:

Electrical parameters of solar cells with electrodes made by selective metallization.
Piotr Kowalik, Edyta Wróbel, Janusz Mazurkiewicz.
Microelectronics International 2016 vol. 33 iss. 1, s. 36-41 Impact Factor 0.659. Punktacja MNiSW
15.000

Selective metallization of solar cells.
Edyta Wróbel, Piotr Kowalik, Janusz Mazurkiewicz.
Microelectronics International 2015 vol. 32 iss. 1, s. 1-7 Impact Factor 0.659. Punktacja MNiSW 15.000

Changes in TCR of amorphous Ni-P resistive films as a function of thermal stabilization parameters.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski, J. Kulawik, A. Czerwiński, M. Pluska.
Microelectronics International 2014 vol. 31 iss. 3, s. 149-153 Impact Factor 0.659. Punktacja MNiSW 20.000

Wpływ podstawowych parametrów procesu technologicznego wytwarzania stopu rezystywnego Ni-P na rezystancję i TWR warstwy rezystywnej osadzonej na podłożu glinokrzemianowym.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik, Wojciech Filipowski.
Przegląd Elektrotechniczny 2011 R. 87 nr 7, s. 136-139 Impact Factor 0.244. Punktacja MNiSW 15.000

Wytwarzanie stabilnych warstw rezystywnych metodą bezprądowej metalizacji.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik.
Przegląd Elektrotechniczny 2010 R. 86 nr 6, s. 276-278 Impact Factor 0.242

Influence of solution acidity on composition, structure and electrical parameters of Ni-P alloys.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik, M. Cież, J. Kulawik.
Microelectronics International 2009 vol. 26 iss. 2, s. 24-27 Impact Factor 0.588


Method for preparing selective metal layers of nickel-phosphide, cobalt-phosphide and nickel-cobalt-phosphide, involves carrying out activation process on substrate followed by performing metallisation and stabilizing resistive layer
Cież Michał, Kulawik Jan, Pruszowski Zbigniew, Kowalik Piotr
Patent Number(s): PL404234-A1
Patent Assignee Name(s) and Code(s): INST TECHN ELEKTRONOWEJ(TEEL-Soviet Institute)
Derwent Primary Accession Number: 2015-24835J [43]


Publikacje naukowe w czasopismach krajowych - Lista B MNiSW:

 
Resistive Ni-W-P layers obtained by chemical metallization method. 
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Przegląd Elektrotechniczny 2015 R. 91 nr 9, s. 105-106 Punktacja MNiSW 14.000

Rezystancyjne czujniki wilgotności oparte na rozwirowywanych szkliwach krzemowych i stabilizowanej ceramice cyrkonowej.
Edyta Wróbel, Piotr Kowalik, Krzysztof Waczyński.
Przegląd Elektrotechniczny 2014 R. 90 nr 9, s. 98-100 Punktacja MNiSW 10.000

Selektywna metalizacja krzemowego ogniwa fotowoltaicznego.
Piotr Kowalik, Edyta Wróbel.
Przegląd Elektrotechniczny 2013 R. 89 nr 10, s. 103-104 Punktacja MNiSW 10.000

Wpływ podstawowych parametrów wytwarzania stopów Ni-Co-P oraz Co-P na rezystancję i temperaturowy współczynnik rezystancji.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski, Wojciech Filipowski.
Elektronika 2014 R. 55 nr 9, s. 64-66 Punktacja MNiSW 6.000

Influence of kinetics parameter of electroless nickel plating in order to optimalisation electrical parameters of Ni-P resistive layers.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik.
Elektronika 2012 R. 53 nr 9, s. 77-79 Punktacja MNiSW 6.000

One-stage substrate activation using in resistive layer formation.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski, D. Rymaszewska.
Elektronika 2010 R. 51 nr 9, s. 98-99

Wpływ intensyfikacji procesu metalizacji bezprądowej na podstawowe parametry elektryczne rezystywnego stopu Ni-P.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2010 R. 51 nr 9, s. 96-97

Rezystory niskoomowe wytwarzane metodą wielostopniowej metalizacji.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2009 R. 50 nr 10, s. 14-17

Wytwarzanie warstw rezystywnych typu Ni-Cu-P.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2009 R. 50 nr 10, s. 12-14

Impulsowa stabilizacja warstw rezystywnych Ni-P.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2008 R. 49 nr 11, s. 66-67

Model matematyczny wiążący parametry elektrofizyczne warstw rezystywnych Ni-P parametrami procesu bezprądowej metalizacji.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2008 R. 49 nr 11, s. 68-70

Thermoelectric force in Ni-P resistive layers.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik.
Elektronika 2008 R. 49 nr 1, s. 70-71

Hybrydowe warstwy rezystywne NiCr+NiP.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Elektronika 2002 R. 43 nr 3, s. 23-25

Technologie mikroelektroniczne. Laboratorium technik warstwowych. Praca zbiorowa. Pod red. K. Waczyńskiego.
K. Drabczyk, Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski, Jerzy Uljanow, Krzysztof Waczyński, Edyta Wróbel.
Gliwice : Wydaw. Politechniki Śląskiej, 2003, Skrypt nr 2303

Liczba cytowań w bazie Web of Science: 6
Indeks Hirscha wg. Bazy Web of Science: 2

Publikacje naukowe w materiałach konferencji o zasięgu międzynarodowym:


Modifying the process of resistive layer formation by using one-stage substrate activation.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik, D. Kościelny.
XXXIII International Conference of IMAPS - CPMT IEEE Poland, Pszczyna, 21-24 September 2009. Proceedings. s. 295-298

New types of enamels as a protective coatings used in hermetisation for metal fixed resistors.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik.
IX Electron Technology Conference. ELTE 2007, Kraków, 4-7.09.2007. Book of abstracts.

Preparation of resistive Ni-W-P layers in strong acidic technological solution.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik, M. Cież.
XXXI International Conference IMAPS - Poland 2007, Rzeszów-Krasiczyn, 23-26 September 2007. Proceedings.

The phenolic-formaldehyde resin as a protective coating for metal fixed resistors.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik, M. Cież.
XXXI International Conference IMAPS - Poland 2007, Rzeszów-Krasiczyn, 23-26 September 2007. Proceedings.

Fabrication of Co-P resistive layers by chemical method.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski, M. Filipczyk.
XXX International Conference IMAPS Poland Chapter 2006, Kraków, 24-27 September 2006. Proceedings.

Publikacje naukowe w materiałach konferencji o zasięgu krajowym:  

Badanie progu perkolacyjnego układu sadza - grafit.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
II Krajowa Konferencja Elektroniki. KKE'2003, Kołobrzeg, 9-12 czerwca 2003. Materiały konferencji. T. 1. Koszalin : Wydział Elektroniki Politechniki Koszalińskiej, 2003, s. 75-78,

Ni-P-B resistive layer obtained by chemical method.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
27-th International Conference and Exhibition IMAPS - Poland 2003, Podlesice, Gliwice, 16-19 September, 2003. Proceedings. Eds: M. Drelichowska [i in.]. [Kraków] : [International Microelectronics and Packaging Society IMAPS. Poland Chapter], 2003, s. 200-202

Rezystory warstwowe wykonane metodą chemicznej metalizacji.
Zbigniew Pruszowski, Piotr Kowalik.
Pierwsza Krajowa Konferencja Elektroniki. KKE'2002, Kołobrzeg - Dźwirzyno, 10-12.06.2002. Materiały konferencji. T. 1. Koszalin : Wydział Elektroniki Politechniki Koszalińskiej, 2002, s. 87-90

Rezystory z warstwą hybrydową NiCr-NiP.
Piotr Kowalik, Zbigniew Pruszowski.
Pierwsza Krajowa Konferencja Elektroniki. KKE'2002, Kołobrzeg - Dźwirzyno, 10-12.06.2002. Materiały konferencji. T. 1. Koszalin : Wydział Elektroniki Politechniki Koszalińskiej, 2002, s. 103-108

Projekty badawcze:

Krajowe:

 1. Projekt badawczy KBN: 244/BO/A – 148423/C-T00/2005
Opracowanie systemu oświetlenia awaryjnego z centralnym monitoringiem i sterowaniem opraw i urządzeń awaryjnych dla obiektów zagrożonych atakiem terrorystycznym
Kierownik: prof. Ewaryst Tkacz
Okres realizacji: 2005-2007
Rola w projekcie: wykonawca

 2. Projekt badawczy NCN: N515 5040 40
Badania wpływu parametrów procesu technologicznego na skład chemiczny i strukturę amorficznych stopów rezystywnych typu Ni-P oraz Ni-Me-P, determinujące właściwości elektryczne i przydatność stopów do wytwarzania precyzyjnych rezystorów warstwowych.
Kierownik: dr inż. Michał Cież (Instytut Technologii Elektronowej w Krakowie).
Okres realizacji: 2011-2013
Rola w projekcie: wykonawca


Uczelniane:

1. Projekty badań kierunkowych (BK)
    Okres realizacji: - 2014
    Rola w projekcie: wykonawca zadania  

Współpraca naukowa

Krajowa:
Instytut Technologii Elektronowej, Oddział w Krakowie

Nagrody i wyróżnienia:

Nagrody J.M.Rektora

Nagroda Zespołowa za osiągnięcia w dziedzinie dydaktycznej w roku 1999
Nagroda Indywidualna za osiągnięcia w dziedzinie naukowej w roku 2002
Nagroda Indywidualna za osiągnięcia w dziedzinie naukowej w roku 2012
Nagroda Zespołowa za osiągnięcia organizacyjne w roku 2013
Nagroda Zespołowa za osiągnięcia organizacyjne w roku 2014
Nagroda Zespołowa za osiągnięcia organizacyjne w roku 2015


Działalność dydaktyczna

Specjalistyczne wykłady kursowe:

-   Technologie Mikroelektroniczne (kierunek Elektronika i telekomunikacja)
-   Przyrządy półprzewodnikowe (kierunek Elektronika i telekomunikacja)
-   Elementy Elektroniczne (kierunek Elektronika i telekomunikacja)
-   Elektronika i miernictwo (kierunek Informatyka)
-   Podstawy miernictwa (kierunek Automatyka)


Opiekun (promotor) prac dyplomowych magisterskich:  18


Działalność organizacyjna:

Członek Komitetu Organizacyjnego Konferencji IMAPS Polish Chapter, 2003 i 2009
Opiekun Praktyk Studenckich na kierunku studiów